Adobe Substance 3D Painter v12.1.4

Adobe Substance 3D Painter 是 Substance 3D 系列中面向三维贴图绘制与材质表现的软件，常被称为三维绘画工具。它把材质直接绘制在模型表面，而不是在二维贴图上手工对位，因此无需在三维软件与图像软件之间反复往返即可完成从底色到细节的完整材质制作。工作方式以图层堆栈为核心：颜色、金属度、粗糙度、法线、高度、自发光、环境光遮蔽与不透明度等通道各自独立成层，配合遮罩、生成器、填充效果与智能材质，可搭建出可反复调整、随时回溯的非破坏流程。笔刷体系涵盖常规绘制、橡皮擦、涂抹、克隆、投影与粒子和物理笔刷、动态笔触以及基于路径的绘制工具，路径工具族中除直线、曲线、多段线、几何与带纹理的路径外，还包含可沿路径无缝延展或重复贴图并支持文字沿路径排布的缎带工具，配合对称、惰性鼠标与直线绘制可显著提升效率。软件可导入外部模型并自动或手动展开紫外坐标，可在软件内完成网格贴图烘焙，产出法线、环境光遮蔽、曲率、位置、厚度、标识与置换等贴图，并提供实时视口预览、显示设置与多种后处理效果用于呈现成品观感，内置的光线追踪渲染器可产出接近最终成品的静帧。成果可导出为各类位图与分层文件，并通过输出模板把材质交付给三维软件与游戏引擎；软件同时支持大规模紫外分块工作流、稀疏虚拟贴图、颜色管理与脚本扩展。典型使用场景包括游戏与影视资产的材质制作、道具与场景纹理、产品与建筑可视化材质、角色与服装表面细节、机械硬表面与手绘风格化效果、以及在工作室管线中批量处理材质与自动化交付。

本条目对应的版本为 Adobe Substance 3D Painter 12.1.4，官方发行说明标注其发布日期为 2026 年 9 月 4 日，性质为小幅更新，是 2026 年 6 月 22 日至 23 日发布的重大版本 12.1 的第三次维护补丁；第三方分发页面常见其内部构建标识为 12.1.4.5751。12.1.4 本身不含新功能，仅修复一处缺陷：导入或导出文件名包含非 ASCII 字符的文件时会崩溃。其所处的 12.1 系列带来三块主要更新。第一块是烘焙流程的重做：网格贴图可随参数调整持续重新烘焙，自动重烘焙按贴图逐个开启且一次作用于一张贴图；当笼体采用基于距离的模式时，可直接在低模表面绘制倾斜校正，从而控制烘焙时的投射方向，可选画笔、橡皮擦与多边形填充工具，并配有紧凑的灰度取色器、对称与常用笔刷操作，校正绘制可撤销；绘制倾斜校正时新增边缘保护选项，通过边缘距离与边缘对比度保留高模投射到硬边上的柔和感；网格贴图列表经过重新设计，每张贴图都可单独设为主视口预览、单独快速烘焙、单独开自动重烘焙，并可在多个纹理集之间同步设置；视口烘焙按钮合并为一个按钮，并显示需要烘焙的贴图总数。第二块是材质定义标准的切换：软件支持开放物理渲染表面标准 1.1 并将其作为默认工作流与默认着色器，新建项目若未选用模板即使用该着色器，新建项目窗口的首项由旧标准改为该标准，附带新的项目模板与更新后的示例项目；导入场景描述格式或通用模型格式时会依据项目模板设定着色器而不再依据文件内容猜测，材质与模板工作流不一致时会在日志中提示；导出贴图窗口新增命名规范下拉选项，在项目中至少有一个着色器使用新标准时默认采用其命名方式，并按分类重新组织通道以便创建输出模板；该标准材质可通过场景描述格式导入导出，并新增着色器定义以便在光线追踪渲染器中正确呈现。第三块是自动展开的硬表面模式：自动展开设置中新增硬表面选项，减少紫外坐标形变并生成正交对齐的布局，更适合机械类模型。此外该系列还加入一次性增删多个通道的窗口、跨纹理集展开全部实例图层、统一烘焙与绘制的撤销历史、新增硬边相关的引擎贴图输入、更新颜色引擎至 7.0 与 Python 至 3.13，并把最低支持的 macOS 版本提升至 13 Ventura。向前追溯，重大版本 12.0 于 2026 年 3 月 9 日发布，带来图层堆栈内的纹理展开与导出、投射的自动贴合几何体模式、重做后的后处理效果、改进的新建项目与项目设置界面，并更新场景描述格式库、二次开发接口与显卡驱动最低要求；更早的 11.1 于 2025 年 11 月 18 日发布，加入缎带路径工具与配套内容、填充图层与效果的对称、置换的物理尺寸单位，并把图形接口由 OpenGL 切换为 Vulkan，使基于图形处理器的烘焙光线追踪在更多品牌显卡与 Linux 平台上可用。

版本与发布信息：Adobe Substance 3D Painter 12.1.4，官方发行说明标注发布日期为 2026 年 9 月 4 日，性质为小幅更新，属于 2026 年 6 月 22 日发布的重大版本 12.1 的维护补丁；第三方分发页面常见其内部构建标识为 12.1.4.5751。
12.1.4 修复内容：修复导入或导出文件名包含非 ASCII 字符的文件时发生崩溃的问题。
12.1.3（2026 年 8 月 26 日）更新与修复：子
- 将 Substance 引擎更新至 9.4.6 版本。
- 修复切换工具后灰度取色器仍保持打开的问题；修复绘制并撤销时倾斜校正失效的问题；修复投射工具阻挡视口交互的问题；修复笔刷属性中动态笔触参数缺失的问题；修复导出到网络位置不再可用的问题。
12.1.2（2026 年 8 月 3 日）修复内容：修复部分程序化材质在渲染时崩溃、在烘焙模式下重新导入网格崩溃、图形显示初始化失败导致崩溃、更新日志时导出贴图崩溃、烘焙模式下加载或更新环境贴图时崩溃；修复修改高模文件后重新烘焙导致卡死；修复发送到 Photoshop 时未能导出图层遮罩；修复锚点结果无法在遮罩与颜色通道之间渲染。
12.1.1（2026 年 7 月 9 日）更新与修复：倾斜烘焙新增基础法线模式选项，可在网格法线与逐三角面之间切换；统一颜色始终重置为所在通道的默认值；导出贴图窗口按类别重新组织通道以便创建输出模板；引擎更新至 9.4.5。同时修复打开与保存部分项目耗时过长、重新加载多个网格崩溃、在遮罩视图模式下删除通道崩溃、部分程序化材质渲染崩溃、倾斜绘制工具在切换回绘制模式后仍保持选中、笼体距离设置未更新模型线与着色器显示、紫外留边在三维空间邻接模式下对薄三角面效果不佳、锚点结果无法在遮罩与颜色通道之间渲染等问题。
自动重烘焙（12.1）：网格贴图可随烘焙参数调整持续重新烘焙，无需每次改动后手动触发；自动重烘焙按贴图单独开启，一次只作用于一张贴图，既适合倾斜绘制流程，也方便反复调整通用烘焙设置。
倾斜校正绘制（12.1）：当笼体设置为基于距离的模式时，可直接在低模网格上绘制倾斜校正以控制烘焙时的投射方向；提供画笔、橡皮擦与多边形填充工具，配紧凑灰度取色器与对称开关，并支持常用笔刷快捷操作，绘制结果可撤销。
倾斜预览与视觉辅助（12.1）：绘制倾斜贴图时提供专门的倾斜预览着色器与倾斜方向矢量显示，便于直观判断投射方向；视口工具栏按钮与烘焙模式图标同步调整，笔刷对称开关在顶部工具栏可见。
边缘保护（12.1）：绘制倾斜校正时可开启边缘保护，保留高模投射到硬边上的柔和过渡，效果由边缘距离与边缘对比度两个参数控制。
网格贴图列表重做（12.1）：列表提供逐贴图控制项，可设置视口预览、单独快速烘焙、开关自动重烘焙、在多个纹理集之间同步设置，每项均带悬停提示；网格贴图设置与通用烘焙设置拆分，通用设置不再只对部分贴图生效。
精简烘焙按钮（12.1）：视口烘焙按钮被单一按钮取代，按钮上显示需烘焙的贴图数量，该数量按纹理集、紫外分块与已选网格贴图相乘得出。
开放物理渲染表面标准支持（12.1）：支持该标准的 1.1 版本并作为默认工作流与默认着色器，新建项目未选模板时即采用该着色器；新增该标准的项目模板，示例项目同步更新；导入场景描述格式或通用模型格式时按项目模板设定着色器而非依据文件内容猜测，工作流不一致时在日志中提示；导出贴图窗口加入命名规范下拉选项，默认在项目中存在使用该标准的着色器时选用，并按类别组织通道；该标准材质与贴图可通过场景描述格式导入导出，同时新增着色器定义以便在光线追踪渲染器中呈现该标准材质，获得更准确的材质表现；自定义着色器可能需要同步更新，相关接口变更记录可在应用的帮助菜单中查阅。
硬表面自动展开（12.1）：自动展开设置新增硬表面选项，通过减少紫外坐标形变并生成正交对齐的布局，更适合机械类与硬表面模型。
通道批量增删（12.1）：纹理集设置中新增窗口，可一次性选择多个通道，便于配置开放物理渲染标准工作流所需的较长通道列表，并提供应用到全部纹理集按钮以统一修改所有纹理集的通道配置。
跨纹理集展开全部实例（12.1）：实例化图层与组上新增展开全部实例选项，可在实例出现的每个纹理集中产出展开结果，并沿实例树逐层处理，整个过程记录为单步撤销。
统一撤销历史（12.1）：烘焙模式与绘制模式共用同一撤销历史，两种模式之间的切换记录为可撤销步骤，操作只能在发生它的模式中撤销。
引擎与基础组件更新（12.1）：新增网格硬边与网格硬边三角面两项引擎贴图输入，便于在绘制中利用模型硬边信息；更新颜色引擎至 7.0；把 Python 更新至 3.13；扩展几何遮罩的脚本接口，使其支持与界面一致的包含与排除模式；避免不同着色器实例重名；在图层堆栈中让遮罩内的填充效果默认使用白色。
12.1.0 缺陷修复：修复对纹理集应用网格贴图设置时崩溃、在没有世界空间法线的贴图上烘焙曲率时崩溃、启用自定义笼体但未选择文件时烘焙崩溃、取消环境光遮蔽烘焙时崩溃；修复高模文件路径无效时自动笼体无限加载；修复 Linux 与 Windows 上取色器有时全黑或不显示；修复多边形填充工具在非物理渲染通道下不可用；修复删除基础色通道后此前绘制的颜色未被删除；修复场景描述格式中着色器实例未被完整识别；修复程序化材质仅考虑输入输出节点的首次使用；修复使用不同混合方式的纹理集导致环境光遮蔽被重复应用；修复蓝色通道为空或为黑的正则贴图导致错误的混合结果；修复通用模型格式导入时所有纹理集都启用透明混合、导出时始终启用透明混合、导入时始终禁用双面几何体；修复脚本修改着色器设置不进入撤销历史；修复示例项目中未启用次表面散射显示设置。
图层展开（12.0）：图层堆栈右键菜单新增展开动作，选中多个图层后可先成组再生成展开副本，源组自动禁用，用户可选择删除或另存为智能材质以便后续编辑；图层、组或遮罩的展开结果可直接导出到磁盘，支持单选与批量处理，便于在其他软件中快速迭代而无需走完整贴图导出流程。
投射自动贴合几何体（12.0）：在扭曲投射模式下，上下文工具栏新增贴合几何体开关，开启后投射会自动沿网格曲率与拓扑平滑贴合表面，在复杂或弯曲形体上布置贴花时可大幅减少手工微调；编辑扭曲投射网格顶点时会尽量保留既有形变，以保持投射形状一致；该开关可随时关闭且不会重置当前投射设置。
后处理效果重做（12.0）：显示设置窗口中提供一整套可逐个开关并按堆栈顺序作用的后处理效果，新增镜头光晕与胶片颗粒，并改进景深与眩光等效果；完整列表包括景深、泛光、眩光、镜头光晕、横向色差、暗角、锐化、胶片颗粒、色调映射与颜色校正；色调映射器得到更新，并新增后处理资产的使用方式，默认后处理资产已集成到资源库中。
新建项目与项目设置界面改进（12.0）：新建项目窗口的参数重新排序并分组，常用设置位置更醒目，整体更易浏览；项目设置中新增重新导入网格选项，会保存并自动填入上次加载的文件路径，减少反复迭代项目时的重复步骤；项目创建界面与项目配置界面的可用性同步改进；支持打开以几何体形式保存的场景描述格式文件。
缎带路径工具（11.1）：在不产生断口的前提下沿路径变换与重复贴图，并提供起止段控制与多种转角类型；可用于让文字沿路径排布、沿路径生成渐变、制作环绕模型的高级饰边与装饰条；跨任意表面与几何体工作，即使网格各部分并不相连；支持在起止偏移之间拉伸贴图，把图像的局部用作路径首尾而中段沿路径拉伸；支持自动或手动控制重复与拉伸；非方形资源会自动适配路径长度，适合细长的重复装饰图案；兼容基于程序化材质的动态笔触系统，可实现自定义首尾与左右转角，并提供自定义缎带灰度与自定义缎带材质两个预设；兼容对称功能；针对路径自我交叠的情况提供透明、法线与高度通道的专用混合模式以改善结果。
路径工具族整体改进（11.1）：路径上可分别按顶点调整尺寸与不透明度，不再与压感绑定；多数工具的属性参数改为可折叠分组，默认折叠部分参数以缩短面板；资源窗口中支持按工具关键字搜索，例如输入缎带、绘制、路径或涂抹即可筛出匹配预设。
缎带配套内容（11.1）：随版本提供七十五个利用缎带能力的工具预设，并在属性窗口中加入按类别组织的预设快捷按钮与收藏分类，包含服装类的接缝褶皱、明线与拉链、织物撕裂，基础类的线条、虚线、渐变与基于动态笔触的自定义缎带，污渍类的三类裂纹，硬表面类的防滑纹、面板与接缝细节、胶带与焊接，生物类的干净与脏污绷带，绘制类的笔刷渐变与水粉，以及文字类的不同对齐与拉伸方式示例。
填充图层与效果对称（11.1）：在三维投射模式下，填充图层与填充效果可使用对称，提供镜像与径向两种方式，可通过上下文工具栏或属性窗口中的专门分区开启；新增翻转输入资源或横纵轴的选项，便于把文字镜像后仍保持两侧可读；对称设置的界面重新设计，轴向滑块各占一行以提高精度，径向显示占比缩小以节省空间。
置换物理尺寸（11.1）：着色器设置中调整置换强度时可选尺度单位，包括沿用既有行为的归一化、以模型文件内单位为参照的场景模式、以及使用项目配置中定义的单位并以厘米表示的物理尺寸模式，便于与其他软件对齐置换后的几何体。
Vulkan 图形接口（11.1）：Windows 与 Linux 平台的图形接口由 OpenGL 切换为 Vulkan，用于视口渲染与贴图计算，整体性能得到改善并便于后续集成新功能；烘焙中的光线追踪改由 Vulkan 实现，取代此前的两套加速接口，使基于图形处理器的烘焙光线追踪在更多品牌显卡与 Linux 平台上可用，并改善高分辨率下的烘焙耗时；此前版本已在 macOS 上由 OpenGL 切换为 Metal。
程序化材质分辨率覆盖（11.1）：在工具与填充图层或效果中使用程序化材质资源时，新增分辨率参数组，可指定计算分辨率所依据的模式与上下文，默认自动，也可按纹理集或自定义设定，并可通过系数做相对调整，例如取某一上下文分辨率的一半，最终分辨率在该参数组中显示。
性能与体验改进（11.1）：改善在大三角面模型上绘制小笔触的渲染表现，低模或单个大四边形模型不再成为障碍；改善着色器编译耗时；更新后的烘焙器提供更快的图形处理器渲染；默认笔刷形状更新，可在兼顾硬度行为的前提下控制尺寸与圆度。
绘制工具与笔触：提供多种绘制工具与笔刷，支持橡皮擦、涂抹、克隆、投影与填充，支持压感与倾斜、笔触间距与抖动、笔刷形状与颗粒等控制；直线绘制便于以更少的点击获得更精确的线条，惰性鼠标通过光标与实际绘制之间的偏移获得更平滑更精准的笔触；动态笔触由程序化材质驱动，可在同一笔画内让每个图章发生变化，适合复杂而自然的表面变化；预设可保存工具配置并随时调用。
通道绘制与材质通道：可对基础色、金属度、粗糙度、法线、高度、自发光、环境光遮蔽、不透明度等通道分别绘制，通过绘制高度等信息再转换为法线可实现更复杂的表面效果；纹理集设置中可集中管理通道与其分辨率。
智能材质与智能遮罩：可把整套图层与遮罩配置保存为智能材质或智能遮罩，便于在多处复用与统一调整；配合生成器与遮罩预设可快速铺开复杂材质细节。
填充投射与扭曲投射：填充图层与填充效果按指定模式把贴图投射到网格上，避免手工绘制，投射设置可在属性面板中调整；扭曲投射可对投射网格做自由形变，并可开启自动贴合几何体以适配复杂曲面；使用扭曲模式投射时会正确重定向法线贴图。
烘焙网格贴图：可在软件内烘焙法线、环境光遮蔽、曲率、位置、厚度、标识、置换等贴图，支持高模到低模的投射、基于距离或自定义笼体、按名匹配与按低模代高模等方式，支持图形处理器光线追踪加速，并可在烘焙预览中查看结果；网格贴图导出预设可导出灰度贴图。
自动展开紫外坐标：在项目创建或项目设置中可自动展开紫外坐标，便于快速起步；新版本加入面向硬表面模型的选项以改善机械类模型的布局质量。
紫外分块与稀疏虚拟贴图：支持按分块方式处理超高分辨率纹理，适合影视级资产与大体量场景；稀疏虚拟贴图可在需要时才加载与计算所需区域，降低显存与内存压力；处理该工作流时官方建议配备 32GB 内存、8GB 显存与用于存放项目和应用缓存的固态硬盘。
实时视口与显示设置：视口提供多种显示模式与着色器预览、网格线框与笼体可视化、环境贴图与光照设置；显示设置中可配置后处理效果、次表面散射与阴影等呈现选项。
颜色管理与渲染：提供基于开放色彩标准的颜色管理，可指定取色器的默认色彩空间，支持线性与显示参考空间转换；内置光线追踪渲染器可产出接近成品的静帧；导出 8K 尺寸贴图需要显存大于 2GB 的显卡。
导出与管线交付：可把项目导出为位图贴图与分层文件，也可导出模型几何体；导出贴图窗口提供输出模板、命名规范与通道分组，便于与其他软件和游戏引擎对接；支持通过场景描述格式导入导出材质与贴图。
脚本与扩展：提供 Python 与 JavaScript 脚本接口以及插件机制，可用于批量处理、自定义工具与管线集成；新版本扩展了脚本对几何遮罩、自动展开设置与色彩空间等方面的控制能力。
外设支持：官方列出的已测试数位板包含和冠的 Intuos Pro 中号与 Intuos 小号、XPen 的 Deco 01、绘王的 Q11K 与 Xencelabs 的 Pen Tablet Medium；支持三维连接设备 SpaceMouse，驱动版本因平台而异，覆盖 Compact、Pro 与 Enterprise 三款型号。
系统要求（Windows）：操作系统最低为 Windows 11 64 位版本 23H2，推荐 24H1，最佳 24H2；处理器最低为英特尔酷睿 i5 或超微锐龙 5，推荐 i7 或锐龙 7，最佳 i9 或锐龙 9；显卡最低为 GeForce RTX 2060 Super、Quadro RTX 4000、Radeon RX 5700 XT 或 Radeon Pro W5700，推荐 RTX 3080、Quadro RTX A4000、Radeon RX 6800 XT 或 Radeon Pro W7700，最佳为 RTX 4090、Quadro RTX 5000 Ada、Radeon RX 7900 XTX 或 Radeon Pro W7800；显存最低 8GB，推荐 16GB，最佳 24GB；内存最低 16GB，推荐 32GB，最佳 64GB；存储需固态硬盘并分别预留 30GB、50GB 与 70GB 可用空间。
系统要求（macOS）：官方系统要求页面按层级列出最低 macOS 12 Monterey、推荐 macOS 13 Ventura、最佳 macOS 14 Sonoma，处理器与图形处理器最低为 Apple M1、推荐 M2 Pro、最佳 M4 Pro，内存最低 16GB、推荐 32GB、最佳 64GB，存储需固态硬盘并分别预留 30GB、50GB 与 70GB 可用空间；同时 12.1 版本说明中明确最低支持的 macOS 版本已提升至 13 Ventura。
系统要求（Linux）：企业授权版本支持红帽企业版 Linux 8 与 9，Steam 版本支持 Ubuntu 22.04；该平台不支持 Mesa 驱动。
通用建议与最低驱动：建议使用垂直分辨率高于 1000 像素且宽度大于 1280 像素的显示器；远程桌面使用需参考官方专门说明；在锐龙处理器上烘焙崩溃可通过更新主板固件解决；Windows 平台最低显卡驱动为 GeForce 与 Quadro 442.50、Radeon 19.7.1、Radeon Pro 与 FirePro 18.Q4、英特尔 15.33，Linux 平台最低为 535.171.04 与 Radeon 22.40.6，macOS 的驱动由操作系统提供；启用基于图形处理器的烘焙光线追踪需安装上述最低驱动，直接光线追踪还需要 Windows 10 1809 及以上与 Pascal 架构及更高阶的显卡，在具备专用光线追踪硬件的显卡上表现最优；12.0 版本已把超微显卡的最低驱动要求提高到 25.3.1 与 25.Q2。
不支持的配置：Windows 平台不支持虚拟机与服务器版操作系统；macOS 平台仅支持官方苹果配置且不支持外接显卡；任何平台上 x86-64 架构的集成显卡均不受支持。
授权与获取方式：可通过 Creative Cloud 桌面应用安装并以订阅授权启动，也可通过 Steam 直接以买断形式安装启动，或使用独立版本配合授权文件激活；独立版本支持在激活向导中输入许可文件，或把名为许可文件的密钥文件放入指定目录，并可用环境变量覆盖查找位置；历史版本遗留的账号激活方式已不再可用；官方按应用提供各自独立的 30 天试用。
界面语言：软件界面提供英语、德语、西班牙语、法语、意大利语、日语、韩语、巴西葡萄牙语与简体中文共九种语言。
相关文档与支持：官方提供项目创建、导出、性能优化、界面各面板、绘制工具、烘焙、功能特性、管线与集成、脚本与开发以及技术支持的完整文档，并针对可能影响使用的问题设有专门章节说明。